跳到主内容
DIAMOND-ON-ALUMINUM(AL-METALLIZED SINGLE CRYSTAL DIAMOND)

单晶金刚石覆铝片

Diamond-on-Aluminum(Al-Metallized Single Crystal Diamond)

以单晶金刚石为核心导热体、表面键合铝金属层的高导热电绝缘材料,兼具超高导热、电气隔离与轻量化优势。

单晶芯体 + 铝金属层0.3–5 mm
单晶金刚石覆铝片
QS / PRODUCT PLATFORM MPCVD

01 / PRODUCT OVERVIEW

产品概述

单晶金刚石覆铝片以单晶金刚石为核心导热体,通过表面金属化键合工艺,在金刚石表面结合一层铝金属层,形成"核心+镀覆层"的层状结构,与"单晶金刚石覆铜片"结构原理一致,仅表面金属材质不同。

这一结构与颗粒弥散型金刚石金属复合材料(金刚石微粉颗粒弥散分布于金属基体内部、通体混合而成的各向同性均质材料,行业内常见如金刚石铜复合材料、金刚石铝复合材料等)在本质上不同:后者通体导电;单晶金刚石覆铝片则以金刚石单晶本体作为绝缘芯体,仅在表面形成导电的金属界面,是两种结构与性能均不同的技术路线。

这一结构使产品同时具备金刚石本征的超高导热与电绝缘特性,以及铝层质轻、可加工、成本相对可控的工艺特性,尤其适合对系统重量或综合成本有更高要求的散热场景。

01
MPCVD生长
02 / MATERIAL CHARACTERISTICS

核心优势

单晶金刚石覆铝片

超高导热:系统等效热导率达 1200–2000 W/(m·K),显著高于传统铜钼(CMC)、铜钨(CPC)等金属基散热材料(通常在150–300 W/(m·K)量级)。

高热扩散效率:热扩散系数 9.0–9.5 cm²/s,散热响应速度快,适应高热流密度瞬态工况。

导热与绝缘双重功能一体:金刚石芯体本征绝缘(体积电阻2.95×10¹³ Ω·cm),铝层导电、可加工,实现"高导热+电气隔离"一体化,区别于通体导电的颗粒弥散型金刚石金属复合材料。

热膨胀系数低且稳定:RT–700℃区间热膨胀系数 3.1962×10⁻⁶/K,与半导体器件的热失配风险低。

轻量化优势:铝的密度约为铜的30%(约2.70 g/cm³ vs 铜约8.96 g/cm³),同等结构尺寸下覆铝片整体重量显著低于覆铜方案,适合车载、机载、便携式设备等对重量敏感的应用场景。

03 / TECHNICAL HIGHLIGHTS

技术参数

方形/矩形衬底(与单晶金刚石产品线保持一致)
—
形貌
7×7、8×8、10×12、11×13、13×15、15×15、25×25(与"单晶金刚石覆铜片"标准尺寸一致)
mm
标准尺寸
300–5000(即 0.3–5mm),特殊需求可定制
μm
厚度
3.51–3.52
g/cm
体密度
项目单位规范
形貌—方形/矩形衬底(与单晶金刚石产品线保持一致)
标准尺寸mm7×7、8×8、10×12、11×13、13×15、15×15、25×25(与"单晶金刚石覆铜片"标准尺寸一致)
厚度μm300–5000(即 0.3–5mm),特殊需求可定制
体密度g/cm3.51–3.52
04 / SPECIFICATIONS

产品规格

标准尺寸

7×7mm
8×8mm
10×12mm
11×13mm
13×15mm
15×15mm
25×25mm
THICKNESS
0.3–5mm(300–5000μm),特殊需求可定制

标准尺寸:方形/矩形衬底 7×7mm、8×8mm、10×12mm、11×13mm、13×15mm、15×15mm、25×25mm

厚度范围:0.3–5mm(300–5000μm),特殊需求可定制

可定制项:衬底形貌、尺寸、厚度、图形化/打孔

金属化及表面处理选项:覆铝为基础结构;具体表面处理/镀层方案可根据需求提供

06 / APPLICATIONS

应用领域

激光器

微波功率器件

高功率半导体照明

高功率IC芯片封装散热

车载、机载、便携式设备等对系统重量有明确要求的散热场景

07 / QUALITY & VALIDATION

检测与资料

如有需要,可向公司申请相关检测报告。