产品概述
单晶金刚石采用MPCVD(微波等离子体化学气相沉积)工艺生长而成,是单一晶体取向、结构均匀的功能性金刚石材料,区别于颗粒弥散型或多晶结构材料。
该产品目前以片状(方形/矩形,毫米级尺寸)为主要形态,同时具备圆形(晶圆状)形态的能力。可作为独立的高性能功能材料基片使用,也可作为后续金属化、封装或器件集成的基础材料(如金刚石覆铜片、覆铝片等复合结构产品即以单晶金刚石为核心晶体材料)。
晶体特性
晶向 / 形态 / 尺寸 / 厚度
片状标准尺寸
| 项目 | 规格 | 说明 |
|---|---|---|
| 晶向(抛光面取向) | 可根据需求提供 | 金刚石属立方晶系,行业常见取向为(100)、(110)、(111);具体取向与偏角以晶向检测结果确认 |
| 形态 | 片状(方形/矩形,主要形态);圆形(晶圆状,占比较少) | 片状为当前主要供货形态 |
| 片状标准尺寸 | 7×7mm、8×8mm、10×12mm、11×13mm、13×15mm、15×15mm、25×25mm | 公司标准规格系列,其他尺寸可按需求提供 |
| 圆形(晶圆状)尺寸 | 可根据需求提供 | 可通过技术咨询确认具体规格 |
| 厚度 | 0.3–5mm | 公司标准厚度范围(片状) |
材料参数
| 项目 | 单位 | 数值 | 说明 |
|---|---|---|---|
| 热导率 | W/(m·K) | 1800–2200 | 高品质CVD单晶金刚石材料参考值,具体以实际检测报告为准 |
| 热膨胀系数 | 10⁻⁶/K | 1.0–1.5 | CVD单晶金刚石材料参考值 |
| 密度 | g/cm³ | 3.51–3.52 | 金刚石材料物理常数 |
| 莫氏硬度 | — | 10 | 金刚石材料本征属性 |
| 抗拉强度 | MPa | 可根据需求提供 | 暂无本产品专属确认数值,请勿沿用覆铜片产品数据 |
| 杨氏模量 | GPa | 900–1100(行业参考) | 行业公开参考区间 |
| 介电常数 / 介电损耗 | — | 可根据需求提供 | 本产品专属检测数值可按需申请 |
| 体积电阻率 | Ω·cm | >10¹⁴(行业参考) | 行业公开参考区间 |
| 表面粗糙度(正/反面Ra) | nm | 正面Ra≤1.16(样品实测) | 为2025年2月历史15×15mm片状批次第三方检测历史参考值,非现行批次固定参数 |
| 翘曲度 / 平面度 | μm | Sa≈0.56(历史参考值) | 为2025年2月历史15×15mm片状批次第三方检测历史参考值,非现行批次固定参数,详见检测资料 |
| 光学透过率 / 折射率 | — | 不适用 | 光学级指标见"金刚石光学窗口片"产品 |
加工能力
支持定制晶体形貌、形态(片状/圆形)、尺寸及厚度,具体加工范围以实际产能及需求确认为准。
可提供抛光、切割等深加工服务,具体加工工艺及精度指标可根据客户需求进一步确认。
如需特定晶向、纯度等级或表面处理,欢迎通过技术咨询提出具体需求,由研发团队评估可行性。
应用领域
高热流密度器件热扩散与散热验证(功率半导体、射频/微波器件相关方向)
高性能器件验证与前沿研发(超宽禁带半导体、热管理材料、光电子材料等研究方向)
材料评价、工艺开发及原型验证的基础材料平台
后续金属化/封装类产品(如覆铜片、覆铝片)的核心晶体材料来源
检测资料
2025年2月,本产品技术合作方就15×15mm规格片状单晶金刚石样品,委托中国科学院深圳先进技术研究院(SIAT)开展第三方检测,检测项目为晶圆级表面粗糙度与翘曲度:正面表面粗糙度Ra=0.7774–1.158nm,背面Ra=22.096nm,翘曲度Sa=0.5628μm,检测结论为"合格,符合晶圆级标准(按国际标准Ra<3nm视为达到晶圆级)"。
该数据为2025年早期送检结果,与当前设备与工艺批次不完全对应,仅作为工艺能力历史参考,不代表现行批次的固定出厂参数。
如需最新检测数据或具体批次报告,可通过"技术咨询"入口提出申请,由品质部门确认后视情况提供。
技术咨询
标准规格:片状7×7mm、8×8mm、10×12mm、11×13mm、13×15mm、15×15mm、25×25mm,厚度0.3–5mm;圆形(晶圆状)规格可根据需求提供
定制方向:晶向、形态(片状/圆形)、表面处理、纯度等级、非标尺寸及厚度均可根据需求定制